全國統一服務(wù)熱線(xiàn)：136-2848-9798
136-0834-9845
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化加工
硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的電解液時(shí)在-10℃～+5℃左右的溫度下電解 。由于硬質(zhì)陽(yáng)極氧化所生成的氧化膜層具有較高的電阻，會(huì )直接影響到電流強度的氧化作用。為了取得較厚的氧化膜，勢必要增加外電壓，其目的是為了消除電阻大的影響，而使電流密度保持一定，但電流較大時(shí)會(huì )產(chǎn)生激烈的發(fā)熱現象，加上生成氧化膜時(shí)會(huì )放出大量的熱量，使零件周?chē)娊庖簻囟葎×疑仙?，溫度上升將?huì )加速氧化膜的溶解，使氧化膜無(wú)法變厚。
更多案例查看，敬請 【返回】
工藝特點(diǎn)：硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的電解液時(shí)在-10℃～+5℃左右的溫度下電解 。由于硬質(zhì)陽(yáng)極氧化所生成的氧化膜層具有較高的電阻，會(huì )直接影響到電流強度的氧化作用。為了取得較厚的氧化膜，勢必要增加外電壓，其目的是為了消除電阻大的影響，而使電流密度保持一定，但電流較大時(shí)會(huì )產(chǎn)生激烈的發(fā)熱現象，加上生成氧化膜時(shí)會(huì )放出大量的熱量，使零件周?chē)娊庖簻囟葎×疑仙?，溫度上升將?huì )加速氧化膜的溶解，使氧化膜無(wú)法變厚。另外，發(fā)熱現象在膜層與金屬的接觸處最嚴重，如不及時(shí)解決，加工零件的局部表面會(huì )因溫度上升而被燒壞。解決辦法：就是采用冷卻設備和攪拌相結合。冷卻設備使電解液強行降溫，攪拌是為了使整槽電解液溫度均勻，以利于獲得較高質(zhì)量的硬質(zhì)氧化膜。
影響因素：
（1）硫酸氧化處理的濃度：常采用200-250 g/L,槽液的相對密度（室溫下）為1.12-1.15.（2）水：水是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開(kāi)水,而不用自來(lái)水,因為自來(lái)水中含有氯離子,當Cl- >1%時(shí),其制件在氧化過(guò)程中就會(huì )腐蝕,并出現白斑.
（3）氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一.嚴格控制溫度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密.
（4）電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一,它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系.電流密度過(guò)低時(shí),氧化膜的生成速度緩慢,處理時(shí)間增加；反之,過(guò)高時(shí),會(huì )導致溶液和電極因焦耳效應而過(guò)熱.使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉.
（5）初始電壓與處理時(shí)間：硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的初始電壓與時(shí)間對氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的.初始電壓過(guò)大,會(huì )導致電流的增加,焦耳熱和生成熱劇增,促使溶解速度猛增,氧化膜則軟,無(wú)光澤,起粉,不耐磨.對于氧化處理時(shí)間,一般是隨著(zhù)氧化處理時(shí)間的延長(cháng),氧化膜厚度增加,但到一定時(shí)間后,若不增加外加電壓,氧化膜實(shí)際不增加.如果繼續延長(cháng)時(shí)間,則氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化處理時(shí)間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨.
（6）氧化處理溶液的攪拌：攪拌速度大小與氧化膜的生成速度（氧化膜質(zhì)量）有關(guān).
影響因素：
（1）硫酸氧化處理的濃度：常采用200-250 g/L,槽液的相對密度（室溫下）為1.12-1.15.（2）水：水是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的主要成分,一般采用蒸餾水或冷開(kāi)水,而不用自來(lái)水,因為自來(lái)水中含有氯離子,當Cl- >1%時(shí),其制件在氧化過(guò)程中就會(huì )腐蝕,并出現白斑.
（3）氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一.嚴格控制溫度,其氧化膜增厚,硬度提高且光滑、致密.
（4）電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一,它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系.電流密度過(guò)低時(shí),氧化膜的生成速度緩慢,處理時(shí)間增加；反之,過(guò)高時(shí),會(huì )導致溶液和電極因焦耳效應而過(guò)熱.使氧化膜溶解速度增加,硬度下降,表面粗糙、疏松起粉.
（5）初始電壓與處理時(shí)間：硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的初始電壓與時(shí)間對氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的.初始電壓過(guò)大,會(huì )導致電流的增加,焦耳熱和生成熱劇增,促使溶解速度猛增,氧化膜則軟,無(wú)光澤,起粉,不耐磨.對于氧化處理時(shí)間,一般是隨著(zhù)氧化處理時(shí)間的延長(cháng),氧化膜厚度增加,但到一定時(shí)間后,若不增加外加電壓,氧化膜實(shí)際不增加.如果繼續延長(cháng)時(shí)間,則氧化膜硬度低,疏松起粉,相反,氧化處理時(shí)間太短,氧化膜厚度薄且不耐磨.
（6）氧化處理溶液的攪拌：攪拌速度大小與氧化膜的生成速度（氧化膜質(zhì)量）有關(guān).
渝公網(wǎng)安備 50022702000842號