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你知道如何控制硬質(zhì)氧化時(shí)間嗎？
來(lái)源：重慶儒鵠科技有限公司 發(fā)布時(shí)間：2021/6/9 14:47:20
你知道如何控制硬質(zhì)氧化時(shí)間嗎？不知道的話(huà)就和我們硬質(zhì)氧化一起去了解了解吧 
陽(yáng)極氧化時(shí)間太長(cháng)、易造成疏松易脫落、膜層粗糙。 
陽(yáng)極氧化時(shí)間太短、則膜層薄而平滑。   

由此可見(jiàn)陽(yáng)極氧化時(shí)間過(guò)長(cháng)或過(guò)短對質(zhì)量都是不利的，操作時(shí)要嚴格控制。

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化 

硬質(zhì)陽(yáng)極氧化所需時(shí)間由兩部分組成具體說(shuō)明如下。    
1）預陽(yáng)極氧化時(shí)間（以表8－3中配方1為例）。當制件進(jìn)入硬質(zhì)陽(yáng)極氧化槽之后當即加以0．5A/dm2的電流，并在之后的25min時(shí)間內分5～8次將電流密度由0．5A/dm2遞升到2．5A/dm2，這段時(shí)間不能短，否則容易引起以后成膜階段制件發(fā)生短路而引起燒蝕，時(shí)間過(guò)長(cháng)則沒(méi)有意義。    
（2）陽(yáng)極氧化成膜時(shí)間。制件經(jīng)25min預處理之后，電流密度已恒定在2．5～3A/dm2時(shí)，膜層生長(cháng)由此時(shí)正式開(kāi)始。這一段時(shí)間過(guò)長(cháng)或過(guò)短對質(zhì)量都是不利的（適宜的時(shí)間在不同的工藝規范中都提明確要求）。 
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